HMDS真空(kong)鍍膜(mo)機化學名(ming)叫六(liu)甲(jia)基(ji)二(er)矽(gui)胺(an)烷(wan)（別(bie)名(ming)六甲(jia)基(ji)二(er)矽(gui)氮(dan)烷），真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)機又稱(cheng)HMDS基(ji)片(pian)預(yu)處(chu)理系(xi)統，喆圖真空(kong)鍍膜(mo)機對(dui)箱體(ti)內(nei)預處(chu)理過程的工作(zuo)溫度(du)、工作(zuo)壓(ya)力(li)、處(chu)理時間、處(chu)理時保持(chi)時間等(deng)參數(shu)的控制，可以(yi)在矽(gui)片(pian)、襯(chen)底(di)表(biao)面(mian)完(wan)成 HMDS成底(di)膜(mo)的工藝。降低(di)了光(guang)刻膠(jiao)的用(yong)量(liang)，所(suo)有工(gong)藝(yi)都(dou)在密閉(bi)的環境中進行，沒有(you)HMDS揮(hui)發(fa)，提(ti)高了安全(quan)性(xing)。主(zhu)要(yao)適用(yong)於(yu)矽(gui)片(pian)、砷(shen)化鎵、陶瓷(ci)、不(bu)銹(xiu)鋼(gang)、鈮酸鋰(li)、玻(bo)璃(li)、藍(lan)寶(bao)石(shi)、晶(jing)圓等(deng)材料(liao)。

HMDS真空(kong)鍍膜(mo)機化學名(ming)叫六(liu)甲(jia)基(ji)二(er)矽(gui)胺(an)烷(wan)（別(bie)名(ming)六甲(jia)基(ji)二(er)矽(gui)氮(dan)烷），真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)機又稱(cheng)基(ji)片(pian)預(yu)處(chu)理系(xi)統，喆圖真空(kong)鍍膜(mo)機對(dui)箱體(ti)內(nei)預處(chu)理過程的工作(zuo)溫度(du)、工作(zuo)壓(ya)力(li)、處(chu)理時間、處(chu)理時保持(chi)時間等(deng)參數(shu)的控制，可以(yi)在矽(gui)片(pian)、襯(chen)底(di)表(biao)面(mian)完(wan)成 成底(di)膜(mo)的工藝。降低(di)了光(guang)刻膠(jiao)的用(yong)量(liang)，所(suo)有工(gong)藝(yi)都(dou)在密閉(bi)的環境中進行，沒有(you)揮(hui)發(fa)，提(ti)高了安全(quan)性(xing)。主(zhu)要(yao)適用(yong)於(yu)矽(gui)片(pian)、砷(shen)化鎵、陶瓷(ci)、不(bu)銹(xiu)鋼(gang)、鈮酸鋰(li)、玻(bo)璃(li)、藍(lan)寶(bao)石(shi)、晶(jing)圓等(deng)材料(liao)。

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